Abluftwäscher für die Halbleiterfertigung
VSS-Umwelttechnik liefert Prozessgaswäscher, die speziell auf die Abscheidung von Gasen aus Epitaxieprozessen ausgelegt sind.
Der so genannte "Point of Use"-Prozessgaswäscher wird unmittelbar an die Prozessmaschinen angeschlossen. Ausführungen mit mehreren Gaseintrittsystemen ermöglichen auch den Anschluss an Mehrkammersysteme oder AP/RP-Prozessanlagen.
Alle Anlagen der VSS-Umwelttechnik gewährleisten eine hohe Sicherheit sowie lange Prozesslaufzeiten bei den unterschiedlichsten Verfahren. Die Auflagen aus der ATEX Direktive 94/9/EC und die Verhinderung von elektrostatischer Aufladung werden berücksichtigt.
- EPITAXIE (AP, AP/RP)
- APCVD
- RPCVD
- Oxidation
- NOx-Prozess
- Diffusion
- Plasma Etch
- LPCVD
- Furnace

EPI - Gaswäscher für die Halbleiterfertigung
Daten
- Volumenstrom: 50 m3/h
- Temperatur: 20-30 °C
- Schadgase: DCS/TCS
- Rohgaskonzentration: DCS 45 slm
- Reingaskonzentration: HCl < 10 mg/m3
- Waschflüssigkeit: Wasser