Abluftwäscher für die Halbleiterfertigung

VSS-Umwelttechnik liefert Prozessgaswäscher, die speziell auf die Abscheidung von Gasen aus Epitaxieprozessen ausgelegt sind.

Der so genannte "Point of Use"-Prozessgaswäscher wird unmittelbar an die Prozessmaschinen angeschlossen. Ausführungen mit mehreren Gaseintrittsystemen ermöglichen auch den Anschluss an Mehrkammersysteme oder AP/RP-Prozessanlagen.

Alle Anlagen der VSS-Umwelttechnik gewährleisten eine hohe Sicherheit sowie lange Prozesslaufzeiten bei den unterschiedlichsten Verfahren. Die Auflagen aus der ATEX Direktive 94/9/EC und die Verhinderung von elektrostatischer Aufladung werden berücksichtigt.

  • EPITAXIE (AP, AP/RP)
  • APCVD
  • RPCVD
  • Oxidation
  • NOx-Prozess
  • Diffusion
  • Plasma Etch
  • LPCVD
  • Furnace
EPI - Gaswäscher für die Halbleiterfertigung

Daten

Volumenstrom: 50 m3/h
Temperatur: 20-30 °C
Schadgase: DCS/TCS
Rohgaskonzentration: DCS 45 slm
Reingaskonzentration: HCl < 10 mg/m3
Waschflüssigkeit: Wasser