半导体工业的废气处理

VSS提供半导体工业EPI工艺过程中产生的废气提供处理设备。PURGAVI型净化设备（如图所示）能处理EPI工艺中的三氯甲烷、二氯甲烷和氢气， 用强碱也可分离硅烷。

这种所谓的“点应用“的废气处理设备是直接连到工艺过程的主体上， 适用于多烟道系统和AP/RP 的过程设备。

VSS设备系统保证高效、可靠和耐用并严格遵守各项安全规定及标准。避免静电的设计也被考虑在内。

• EPITAXIE (AP, AP/RP)
• 常压化学汽相沉积 （APCVD）
• 等离子体增强化学汽相沉积 （RPCVD）
• 化学氧化 （Oxidation）
• NOx-process
• Diffusion
• 等离子蚀刻 （Plasma Etch）
• 低压化学汽相沉积 （LPCVD）
• 熔炉 （Furnace）