EPI 工艺废气处理设备

VSS技术为EPI工艺中所产生的废气提供处理器。

 

为半导体工业提供的PURGAVI处理设备(如图所示),用于处理EPI工艺过程中产生的三氯甲烷(TCS)、二氯甲烷(DCS)与氢气载体(H2)。用强碱液能实现硅烷的分离处理。

 

VSS的系统设备高效可靠耐用,并完全符合ATEX 94/9/EC规范和BGR132的规定,同时PURGAVI处理设备也能满足德国设备安全条例(GPSG)。

 

为避免不锈钢制的废气导管和处理设备潮湿部分带电,气体导入管采用了电传导塑料。

EPI scrubber of the PURGAVI type

EPI 清洗器 PURGAVI 型

设备参数

流量: 50 m3/h
温度: 20 - 30 °C
废气: DCS
DCS 流量: 45 slm
处理结果: HCl < 10 mg/m3
溶剂: