Gaswäscher für die Halbleiterfertigung

VSS-Umwelttechnik liefert Prozessgaswäscher, die speziell auf die Abscheidung von Gasen aus Epitaxieprozessen ausgelegt sind.

Unser Wäscher Typ PURGAVI (siehe Abb.) eignet sich für Prozesse, bei denen Trichlorsilan (TCS) und Dichlorsilan (DCS) mit Wasserstoff als Trägergas eingesetzt werden. Bei der Verwendung von konzentrierter Lauge ist auch die Abscheidung von Silan möglich.

Der so genannte "Point of Use"-Prozessgaswäscher wird unmittelbar an die Prozessmaschinen angeschlossen. Ausführungen mit mehreren Gaseintrittsystemen ermöglichen auch den Anschluss an Mehrkammersysteme oder AP/RP-Prozessanlagen.

Alle Anlagen der VSS-Umwelttechnik gewährleisten eine hohe Sicherheit sowie lange Prozesslaufzeiten bei den unterschiedlichsten Verfahren. Die Auflagen aus der ATEX Direktive 94/9/EC und die Verhinderung von elektrostatischer Aufladung werden berücksichtigt.

  • EPITAXIE (AP, AP/RP)
  • APCVD
  • RPCVD
  • Oxidation
  • NOx-Prozess
  • Diffusion
  • Plasma Etch
  • LPCVD
  • Furnace
EPI-Wäscher für die Halbleiterfertigung

Daten

Volumenstrom: 50 m3/h
Temperatur: 20-30 °C
Schadgase: DCS/TCS
Rohgaskonzentration: DCS 45 slm
Reingaskonzentration: HCl < 10 mg/m3
Waschflüssigkeit: Wasser